レジスト材料 (高分子先端材料One Point 10)

著者 : 伊藤洋

制作 : 高分子学会 

• 共立出版 (2005年2月10日発売)

作品紹介・あらすじ

この十数年のパソコンを初めとする電子機器の微細化、高性能化、低価格化には目を見張るものがあるが、この電子革命をもたらしたのが、リソグラフィと呼ばれる微細加工技術の進歩であり、その中心にあるのが、レジストと言う感光性機能性高分子材料である。本書は、ハイテックを生み出し、 その発展を支え続けているレジストを、まずは歴史的に概観し、そのイメージングの機構、評価法、分析法などを、高分子材料として説明する。また、これまでの数年、この先の数年も、化学増幅レジストと呼ばれる高感度、高解像レジストが、開発研究、デバイス生産の中心的存在であるので、その誕生、発展の様子の記述に重点を置く．突破不可能と言われた難関を何回も乗り越え、解像度を50nm以下まで伸ばして来たフォトレジストを年代別に解説し、化学増幅レジストの解像度の限界、将来技術にも言及し、活発な発明、基礎研究、開発努力を通じて電子機器の発展に多大の貢献をし続けているレジスト材料を、図を多用し、平易に解説する。

感想・レビュー・書評

[srgbookさんの感想 · 2018年1月31日]

http://www.local/book/pdf/k/koubunshi_sentan_zairyou_one_point/koubunshi_sentan_zairyou_one_point_10_s_r.pdf