はじめての半導体ドライエッチング技術 (現場の即戦力)

著者 : 野尻一男

• 技術評論社 (2011年12月8日発売)

感想・レビュー・書評

[TAZさんの感想 · 2020年1月21日]

半導体ドライエッチング思い出し作業のために購入
加工するプロセスにおけるキープロセスなので、基本事項は抑えておくという目的では非常に有用
基本プロセスと原理が書いてある良書
初心者には良いと思う

[りぶっくま（安城市図書館ファン通信）さんの感想 · 2012年1月16日]

【新刊情報】はじめての半導体ドライエッチング技術　549.8/ﾉ　http://tinyurl.com/6vccod2　ドライエッチングのメカニズムを極力数式を使わないで説明した入門書。プロセスから装置、新技術に至るまで系統的に解説。今後の課題と展望についても言及 #安城

著者プロフィール

1973年 群馬大学工学部電子工学科　卒業
1975年 群馬大学大学院工学研究科修士課程　修了
1975年 (株)日立製作所入社。半導体事業部にてCVD，デバイスインテグレーション，ドライエッチングの研究開発に従事。特にECRプラズマエッチング，チャージア
ップダメージに関して先駆的な研究を行った。また技術開発のリーダーとして
数々のマネージメントを歴任。
2000年 2000年 ラムリサーチ(株)入社，取締役・CTOに就任。
2019年 独立し，ナノテクリサーチ代表として技術および経営のコンサルティングを行っている。
＜主な受賞＞
1989年 ｢有磁場マイクロ波プラズマエッチング技術の開発と実用化｣で大河内記念賞を受賞
1994年 ｢低温ドライエッチング装置の開発｣で機械振興協会賞通産大臣賞を受賞
2019年 DPS Nishizawa Awardを受賞
＜主な著書＞
｢先端電気化学｣（丸善）共著

「2020年 『改訂版　はじめての半導体ドライエッチング技術』 で使われていた紹介文から引用しています。」